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    连续数日的飘飘细雨，令整个申城仿佛都蒙上了一层薄雾。

    是较为难受的回潮天。

    当然，这也是相对的。

    像是方总就感受不到这天气带来的难受与黏腻。

    眨眼便已经是3月下旬。

    在周一的下午，上完了今日课程的方总走进了前沿办公室，背着双手站在窗前看着外面淅淅沥沥的雨雾。

    颇有种闲情逸致的味道。

    “……”

    好片刻后，温叶才凑上来打破这种安静：“方总，您要不现在听听汇报？”

    没错，方年之所以会走进前沿办公室的门，是温叶喊来的。

    方年轻轻点头。

    温叶清了清嗓子：“是这样的，白泽那边已经完成了服务器cpu的流片验证工作，第一款测试级的服务器cpu可用。”

    闻言，方年回头看了眼温叶，走回了工位：“仔细说说，我记得这个月应该有不少项目完工。”

    见状，温叶翻开文件夹，有条不紊的汇报起来。

    “这款服务器cpu采用了cb12指令架构，包含最新的ex64指令集，在‘未竟’架构的基础上借鉴了部分‘初’架构，合理的设计了8个核心，采用中芯40纳米制程流片而成；

    仅流片了一次，便成功通过实际验证；

    不过各方面性能并不是很亮眼，但根据相关测试，大cpu项目组认为这样一款cpu，可以提供足够丰富的实测数据……”

    听温叶停顿下来，方年晃晃手：“都说完吧。”

    温叶轻轻点头，继续往下说：“上周五，贵阳数据中心一期土建工程通过验收，已经可以开始服务器机组的安装调试工作。”

    “……”

    “上周四神龙211流片通过，神龙511流片通过，性能不达标，在调整后将进行第二次流片……”

    “……”

    “晶圆测试线月初正式启动了试生产，光刻机的良率、稳定性等十分不理想，需要进行一定的调整；

    据汇报，有望在下月进行65纳米制程试生产。”

    似乎知道方年会有疑惑，说到这里，温叶特地补充了几句：“duv浸入式光刻实际上一直可以支持到7纳米制程的光刻；

    根据晶圆试验线的负责教授解释：

    传统国际半导体技术蓝图定义光刻制程技术节点的是最小金属间距。

    又根据一个瑞利公式：cd=k1x，降低波长λ，提高镜头的数值孔径na，降低综合因素k1，即可不断演进光刻制程。

    duv激光光源从90年代末至今就一直是停滞在193nm波长；

    不过有人提出了新的方案，一个工程上很简单的办法，在晶圆光刻胶上加1mm厚的水，水可以把193nm的光波长折射成134nm，再做到半周期65nm；

    总之……

    晶圆实验室的教授很有信心保证能在较短时间内突破至65纳米光刻，之后可能会漫长一点，但也不会是太久远的事情。”

    一口气照本宣科的说完，温叶并未多停顿，继续解释。

    “虽然梼杌实验室牵头的euv光刻研发进展十分缓慢，但因为从欧美国家收购的各类技术等等；

    对duv光刻机的研发推动工作很有帮助。”

    “……”

    最后，温叶总结：“截止目前，就是这些项目有确切成果。”

    “小谷负责的胜遇4g组网方案实际实验，还需要一点点时间，应该是在四月底能完成。”

    听温叶完全说完后，方年稍作沉吟：“也就是说，梼杌一点都不重视的duv光刻进展神

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